良率狂飙！颇尔 SEMICON 发布 1nm/1.5nm/2nm/30nm 四大过滤利器

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2026-06-18            环球过滤分离技术网            guolvfenlitech6

3 月 26 日至 28 日，颇尔中国亮相 SEMICONChina 2025 展会，携四款重磅新品及微电子全产业链技术解决方案，深度赋能半导体产业升级。

丹纳赫全球副总裁，颇尔公司及丹纳赫高增长市场总裁Naresh Narasimhan（左2）；颇尔全球副总裁，微电子事业部总经理Milind Palsule（左3）；颇尔全球副总裁，颇尔中国总经理陈淮（左1）；颇尔中国微电子事业部负责人陈磊（左4）出席新品签售仪式

展会期间。颇尔全球产品经理团队亲临展区与半导体行业客户共同探讨前沿过滤技术，现场解析涵盖湿法工艺、光刻、研磨、气体等前沿过滤技术应用及突破性解决方案。凭借深厚的技术底蕴与卓越的全球资源整合能力，颇尔中国致力于助力客户应对日益严苛的颗粒挑战，全力推动半导体客户良率提升。

一、颇尔深耕产品研发，助力客户应对更严苛颗粒挑战

在半导体制造的精密世界里，微小的污染物如同潜伏的“隐形杀手”，对晶圆良率造成显著且深远的影响。权威研究指出，高达80% 的芯片失效源于微观污染物的干扰，其中约 50% 的良率损失直接与晶圆表面污染紧密相连。由此可见，精准控制污染物，已成为提升晶圆良率的关键所在。

在半导体先进制程向2纳米、1.4纳米逼近的过程中，过滤技术已从辅助环节跃升为决定良率的关键变量。任何纳米级污染颗粒，都可能导致晶圆失效，而深耕过滤领域八十年的颇尔公司（Pall Corporation），正是这场良率战争中的隐形赢家。

一粒颗粒，一场良率战争

28纳米时代，过滤仅为基础洁净保障；迈入7纳米及更先进节点后，原子尺度的晶体管结构对污染零容忍——光刻胶中的金属离子、湿法刻蚀药液的污染、CMP研磨液的颗粒团聚，都可能造成巨额损失。尤其3D NAND百层堆叠工艺中，湿法清洗更是防止缺陷累积的最后防线，过滤已贯穿制造全链路。颇尔中国微电子事业部负责人陈磊表示，其亚纳米级过滤方案能有效控制污染，守护客户良率。

八十年积淀，四条核心技术线

1946年诞生的颇尔，从航空航天切入，逐步深耕微电子等领域，如今形成四大核心过滤解决方案，精准覆盖制造薄弱环节：

• 气体纯化：定制滤材与集成设计，为核心工艺筑牢气体洁净屏障；
• 光刻过滤：高效滤膜拦截污染物，保障曝光工序的洁净环境；
• 湿法工艺过滤：适配腐蚀性化学品，严控颗粒与离子污染；
• CMP过滤：精准去除研磨液中团聚颗粒，保留有效研磨成分，支撑工艺稳定。
  

四款重磅产品，直击亚纳米前沿

在SEMICON China展会上，颇尔发布四款先进制程产品，进一步突破过滤精度边界：

• XpressKleen® 1nm过滤器：1纳米PTFE膜技术，降低化学品消耗，提升设备利用率；
• Gaskleen® 1.5nm过滤器：适配光刻、沉积工序，拦截气体超细颗粒；
• UCA 30nm过滤器：专为CMP设计，降低工艺缺陷率；
• Nylon high-flow 2nm过滤器：突破光刻胶纯化瓶颈，提升生产效率。
  

铁三角布局，筑牢韧性供应链

颇尔以北京、日本、新加坡工厂构建亚太供应链“铁三角”：北京工厂聚焦气体过滤与CMP产品，日本与新加坡工厂承接光刻与湿法工艺产品线，形成产能互备、技术共生的格局。北京工厂自1993年建立，经扩产后实现关键产线本土化，有力支撑亚太客户需求。

本土化进化：从卖产品到共研发

进入中国三十年，颇尔从提供标准化产品，升级为“本地创新、服务本地”的模式。通过“In Region, for Region”战略，将中国定位为创新源头，依托CIP客户改进项目和SLS全链条服务团队，深入客户工艺痛点，提供定制化解决方案，实现本土需求反向驱动全球技术迭代。

技术押注：紧跟先进制程与AI趋势

陈磊认为，摩尔定律仍在推进，颇尔正持续研发更高阶亚纳米产品，同时布局智能化监测、绿色材料等方向。针对AI领域的HBM先进存储，颇尔聚焦其极致洁净需求，协同开发分级过滤方案，并切入数据中心液冷过滤环节，挖掘新市场空间。

八十年深耕，守护纯净初心

八十年间，颇尔从实验室技术起步，成长为全球过滤领域领军者，核心源于持续的技术投入与对行业需求的深度理解。面对AI与先进制程的双重挑战，颇尔将继续以精密过滤技术，坚守“纯净守护者”的角色，助力半导体产业突破瓶颈。

面对这一行业难题，颇尔中国凭借强大的研发实力，隆重推出四款重磅新品，为半导体制造的关键环节带来革新性的过滤解决方案。新一代1nm WET PTFE 过滤器及 sub 1nm litho HDPE 过滤器重磅上市，相较于上一代产品，它们在不同化学品颗粒去除效率上实现了高达 40% 的飞跃式提升。这不仅确保了超低有机物、金属和颗粒物的析出，更凭借卓越的净化能力，为晶圆生产过程筑牢了极高的纯度防线。与此同时，Gaskleen 1.5nm 过滤器与 UCA CMP 产品也凭借高精度、高通量、高洁净度的卓越特性，为半导体客户打造了更高效的过滤方案，助力客户在严苛的制程挑战中脱颖而出，迈向更高的洁净标准，向着更高的良率目标稳步迈进。

稳定的质量管控及供应链布局：夯实良率提升根基

在芯片制造领域，良率是千次工序的乘积效应，这种残酷的"良率算术"揭示着半导体行业的底层生存法则：每道工序0.1%的良率提升，都可能使量产芯片数量实现几何级增长。颇尔深耕过滤领域70 余年，始终将稳定批次质量作为核心使命，助力客户在良率提升的征程上稳步前行。颇尔日本工厂凭借卓越的品质和稳定的供应，早已成为全球 Top 客户信赖的伙伴，为其提供可靠的光刻 / 湿化学品解决方案，并收获了头部客户的高度认可。

北京工厂作为颇尔在中国的战略布局核心，自2003 年亦庄基地奠基以来，一路砥砺奋进，逐步构建起 CMP/GAS 新产品开发、生产、应用以及技术支持的全方位能力，已然成为颇尔服务中国及亚太地区客户的关键力量。在此基础上，颇尔中国精心打造了全球化的供应链网络，以北京的 GAS/CMP 工厂、日本和新加坡的 litho/wet 工厂为三大核心支点，构建起一个稳定可靠的“亚太铁三角”供应链布局。这一布局不仅确保了过滤产品供应的稳定性和可靠性，还能够快速响应亚洲及中国客户的需求。通过这种全球化的供应链体系，颇尔能够为客户提供高质量、高性能的过滤产品，满足其在半导体制造过程中对过滤精度和效率的严格要求，从而助力客户提升在市场中的竞争力。

In Region, for Region：技术创新及全方位服务体系精准赋能客户

伴随客户对良率的超高需求，通过持续的技术投入和能力构建，颇尔精准把握客户需求痛点，通过全方位的客户支持服务，确保客户在生产过程中能够获得稳定、可靠的技术支持。公司与全球客户紧密合作，推动CIP（客户改进项目），为半导体客户提供全流程解决方案。同时，颇尔还定制化、针对性地提供关键应用的特定离子、颗粒的过滤BKM，实现颗粒、离子污染物的精准控制，帮助客户提升产品良率和生产效率。

颇尔专业的SLS（销售、实验室、服务）团队能够为客户提供选型、故障排除、培训等售前、售后服务。无论是在产品选型阶段提供专业的技术建议，还是在生产过程中快速解决技术问题，亦或是为客户提供定期的技术培训，SLS团队都能确保客户在每一个环节都能获得精准、高效的支持。这种全方位的客户支持服务，不仅增强了客户对颇尔的信任，也为客户的长期发展提供了坚实保障。

此外，颇尔在北京工厂的扩产计划，如1100万美元的投资，正是其“深耕本地，服务本地”（"In Region, for Region"）战略的延续。通过此次投资，颇尔将结合市场关注与投资力度，进一步提升在中国半导体市场的产品与应用能力。具体而言，公司将通过工厂能力的拓建和战略产品线的拓展，进一步强化中国本土团队在产品管理、研发和技术支持等方面的综合能力，实现对国内及东亚市场客户需求的及时响应，助力亚太半导体产业高质量发展。

四、结语

在半导体产业迈向更高端制程的征程中，过滤技术的重要性愈发凸显。国内半导体市场快速发展，技术不断迭代，但客户在良率提升、产能优化以及技术节点突破等方面仍面临诸多亟待解决的挑战。

作为半导体尖端的技术应用解决方案提供者，颇尔凭借其全球技术实力和本土的服务能力，致力于迎合客户需求，帮助客户解决问题。公司始终秉持“The Unsolvable, Solved.”的理念，将看似不可能的任务变为可能，推动半导体行业的持续进步。通过不断推出创新产品、深化本地研发与客户协作，颇尔中国不仅助力客户应对当前的挑战，更为中国半导体产业的未来发展奠定了坚实的过滤技术基础。在未来的日子里，颇尔中国将继续携手广大客户，以创新技术为引领，共同开创半导体产业高质量发展的新局面。

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