2026-04-29 环球过滤分离技术网 goulvfenlitech6
主要性能和指标: 1、 电子光学系统: 高稳定度肖特基场发射电子枪;放大倍率范围:35-1000000倍,根据加速电压和工作距离的改变,放大位数自动校准。 2、 电子束分辨率 1)高真空模式 (1)1.0nm@15 kV (二次电子像分辨率) (2)1.4nm@1 kV (二次电子像分辨率,非减速模式), (3)3.5nm@0.1 kV (背散射电子像分辨率) 2)低真空模式 : 1.5nm@10 kV (二次电子像分辨率);1.8nm@3 kV (二次电子像分辨率) 3)电子束其他参数 (1)着陆电压:50V ~ 30 kV (2)电子束流:0.6pA ~ 200 nA,连续可调。 (3)最大水平视场宽度:4.0mm在5mm工作距离。 3、能谱技术指标 探测器:分析型SDD硅漂移电制冷探测器,晶体面积80 mm2 ,活区面积65mm2,高分子超薄窗设计。 封闭式真空系统,无需借助SEM抽放真空。 能量分辨率:Mn Ka保证优于127eV(@计数率130,000cps); F Ka 保证优于64eV(@计数率130,000cps);C Ka 保证优于56eV(@计数率130,000cps);符合ISO 15632:2012标准。元素分析范围:Be4~Cf98。 主要功能和服务范围: 用于细菌或真菌表面形貌的高分辨率成像;也可用于非磁性无机或有机微纳米材料的形貌表征及微区元素分析。
生产厂家:FEI 设备型号:Nova NanoSEM 450 主要技术指标: 1.电镜的分辨率:2 nm 放大倍数:7 ~ 500,000 2.扫描电镜分辨率:30kV高真空、低真空: 2.0nm;3kV低真空: 3.5nm 3.30kV透射扫描(STEM)分辨率:1.5nm;环境真空模式下30kV时,分辨率2.0nm 4.能谱元素分析范围:5B~92U 5.EBSD空间分辨率(Al, 20kV):0.1 μm FEG SEM;角度分辨率优于0.5度 6.相鉴定功能:包括七大晶系,具有最大的相鉴定数据库 应用范围: Nova NanoSEM 450 场发射扫描电子显微镜是表面分析重要的表征工具之一,具有灵活先进的自动化操作系统。具有三种成像真空模式--高真空模式、低真空模式和ESEMTM模式,可以观察分析各种类型的样品。它可以对处理过的样品和未处理的原始样品提供微米、纳米级表面特征的图像和微观分析数据。在生物学、地质、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、考古以及其他领域中得到日益广泛的应用。本仪器还配有INCA X-射线能谱仪和EBSD背散射电子衍射系统,元素分析范围为4Be~92U,同时可进行晶体结构和取向分析。 样品要求: 各种类型的尺寸小于5cm×5cm×5cm(尺寸毫米级为宜)的干燥固体样品
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