ICP-MS使用精华问题汇总浅析

guolvfenlitech6

2021-02-05   环球过滤分离技术网   guolvfenlitech6


一、请教各位检测比如检测完高浓度的Al中的杂质元素后，在做其它种类样品中的AL元素，除了更换炬管外，雾化器是否需更换?另外清洗时间大概要多久?有无其它办法?

　　那具体要看你的高纯度AL是怎么做的了，如果基体很高，那么记忆效应就很强烈，炬管，雾化器，都要换，离子透镜什么的可能也要洗洗，清洗时间和你的仪器有关系，交叉的比同心的洗的时间要更长。



二、我知道AMU表示峰宽和峰宽有关，可它是峰宽的单位吗?中文是什么?

　　峰宽的单位是原子质量单位。



三、请问在使用ICP-MS做元素分析时，内标元素的浓度如何确定。一个样品中某元素要求定量分析，我们先做了一个全扫描的定量分析，发现样品中要求分析的元素含量很高，比如1000ppm，此时我们做定量分析时内标用10ppb这样低的浓度可以吗?

　　1. 浓度应该没有硬性规定吧，但是不能太小，如果浓度太小，本身仪器的本底以及其他元素的干扰就会明显。这样在校准别的数据就不准确了。

　　2. 内标主要用来校正仪器的漂移。如果其它元素对内标基本上没有同质量的干扰，我想浓度差一些没什么问题。

　　其次，ICP-MS做痕量分析用，测量的元素浓度是有限度的，PPM级以上用其它仪器能更方便的测定。

　　3. 我们实验室配制的多元素标准液为1ppb, 添加之内标浓度为0.5ppb。

　　若待测物浓度太高可先将待测物稀释至适当浓度再添加内标进行分析, 但如果稀释倍数太高, 似乎添加内标就无意义。

　　4. 仪器检测的试样浓度是有限制的，太高了需要稀释。内标我做是比检测限大，比推荐值小，只要没有什么明显的干扰就用了。

　　5. 加内标的浓度由仪器的内标读数的精密度决定。



四、请问ICP-MS选择是以质量数接近较好呢，还是以电离能接近较好?或者以其它做为选择依据?我用Sc做内标，发现在食品基体中，Sc的计数变化非常大，是否有多原子干扰?

　　1. 应该选择质量数接近的吧。

　　2. 内标主要是为了检测信号随试验条件的变化而加入的。SC的计数变化大说明试验条件不一样了，45质量数的干扰有。

　　12C16O21H+, 28Si16O1H+, 29Si16O+, 14N216O1H+, 13C16O2+ pe的数据，应该还是选择质量数接近的元素。



五、我们用的是热电的ICP/MS，可是最近铀信号稳定性总是调不到2%以下，以前我们调节信号时，是Be比较难调，现在Be挺好，可是铀又不好了，请问各位高手，这是什么原因呢?是否信号稳定性不在2%以下就不可以做实验呢?

　　我们调信号时一般不看Be, 如果Co,In,U的精密度小于3%就很好了, 此时Be一般都还可以, 因为在调最佳化是显示的是瞬时信号, 如果能小于3%, 那么你分析时的RSD肯定能够小于1%。



六、有谁知道做校准曲线时，对force through一项，分别在什么情况下选用blank、origin、none?

　　1. 要看具体直线的特点了，

　　首先，如果标准的配制没问题，

　　如果空白较好，那么选择哪种方式都不重要了，

　　如果空白较大，那么肯定要through blank，等同于扣除空白。

　　由于标准配置不好，或者不准确。

　　有时候选择through origin,主要的原因是通过其它点拟和的直线焦距是负的或者正的很大，空白又没那么大，很可能是标准中的一部分浓度不准确，因此可以强制通过零点，减少误差，使测量结果更可信一些。

　　2. 如果标准溶液配置的准确，那么扣除空白后的直线肯定通过零点，实际曲线中，往往是浓度越低，曲线上的点可信度越差，我得感觉是当线性不好的时候，可以选择通过原点，这样曲线会有所改善，修正低浓度数据点的不良影响。



七、仪器里有汞灯的是怎么用的,有什么作用?

　　校正波长用的。



八、想请教一下在Operate状态下由于氩气用尽而熄火，气路不漏气，炬管也是好的，但是重新点火时，总是气路通几秒钟后仪器就会自动关闭气路，GAS MODULE 试了几次还是这样，该怎么办?

　　试一下下面的方法:

　　1.退出软件, 关闭计算机。

　　2.打开氩气, 调分压到0.6MPa。

　　3.重新打开计算机, 进入软件, 一般可以正常(主要是错误信号没有消除)。

　　如果还不行, 尽快跟仪器厂家联系, 以免耽误工作。



九、ICP-MS比较快的前处理方法，环境样品?

　　1. 采用微波炉消解。

　　2. 高压微波消解系统，MILLSTONE或CEM等等。

　　3. 微波消解或酸浸取.视样品和元素而定.如果作同位素丰度,用浸取就够了。

　　4. 看什么环境样品了，水样用酸固定就可以了，土壤是比较 难做的，不过微波消解也可以，按照你做的元素不同有不同的速度和方法呀。



十、ICP-MS在开机后真空上不去，真空显示为ERROR，检查了分子泵和真空泵都没有问题的，不知道是什么原因?

　　1. 显示是error，那一定应该是控制和通讯的问题吧。

　　2. 检查一下循环水是否打开, 流量和水压是否正确, 一般的分子泵都带有水流连锁保护功能, 我们的仪器如果不开水循环, 真空就不能抽上去,因为分子泵不启动。

　　3. 如果是热电的X7系列通讯出了问题,你可以点击windows任务栏下一个齿轮图标,找到连接那,先断开再连接,或是重启机子。

　　4. 温差有没有设定好呢，环境的温度也有关系哦。

　　5. 也有可能是泵的问题。



十一、最近我用的ELAN6000 ICP-MS本底很高，PB有10ppb的计数，Ni也很高。已经换了进样锥了，炬管也拆下洗过，雾化室也冲过，可计数就是下不来。进样的时侯高，不进样会低下来，应该不是气的干扰吧。进样的水应该没问题。

　　1. 建议重新优化仪器。

　　2. 检查一下仪器的分辨率,一般10%峰高处的宽度应为0.75 AMU 左右, 如果太宽有可能是干扰, 另外检查MASS 220 处的背景, 这个地方应该是仪器背景, 如果高于10 CPS, 估计是电子系统的噪音,我用的是热电的PQ系列, 可能有所不同, 供参考。

　　3. 大概还是雾化器没洗干净。



十二、样品测量类型下面 有blank ; Fully quant standard;instrument setup;unkown;QC sample ; addition standard;zero addition standard;几个类型，我平常只用 blank ; Fully quant standard;unkown三个类型的。问;其他几个类型都是在检测什么的时候才使用的?注：所用仪器是element X系列的

　　空白

　　Fully quant standard;

　　常规地定量分析标准

　　instrument setup;

　　校准仪器时使用。

　　unkown;

　　未知待测样品

　　QC sample ;

　　质控样品，分析中穿插测量；

　　addition standard;

　　标准加入样品；

　　zero addition standard;

　　零标准加入样品。



十三、质谱数据处理峰高法和峰面积法有什么区别?两种方法各适用于哪类分析?

　　对于我用的热电x-7这台仪器，有两种不同的测量方法：

　　跳峰：从一个质朴峰的峰尖直接跳到另外一个峰尖测量，每个峰尖只取少量的点进行测量。测量结果为几点峰值的平均数(cps)

　　跳峰方式用于元素含量定量测量。

　　扫描：在设定区域内固定间隔，每个点计数，最后可以计算出每个峰所有点平均值(cps)，等同于峰面积(因为峰宽一致)。

　　扫描方式用于定性分析较多(对样品不了解)，灵敏度差。



十四、炬管用多久应该更换?炬管与锥有什么关系?

　　1. 正常情况下，一年应该没问题的，不过你得时常注意你的锥哦。

　　2. 锥孔处很容易积盐份的，时间一长影响分析的稳定性和仪器的灵敏度。



十五、请问怎样降低ICP-MS雾化器流速而又对其灵敏度影响较小?怎样减小其背景值?

　　1. 可以更换的流量的雾化器。

　　2. 雾化器流速受控于蠕动泵转速，你可以降低蠕动泵的转速试试。

　　3. 雾化效率对灵敏度有很大影响，但雾化器流速对灵敏度影响不大。

　　4. 背景值与仪器的噪音、实验用去离子水以及离子检测器灵敏度有关。想降低背景值，主要还是用合格的去离子水比较有效。经常合理清洗进样管道，即开机和关机时用去离子水清洗好再关机和实验。尽量要避免过高浓度的样品进入，这样会给仪器造成不必要的污染、降低检测器的寿命。

　　5. 选择低流量高效雾化器可以在减少进样量的情况下不影响灵敏度。背景值与仪器的离子光学系统及四极杆、检测器还有信号处理有关，背景值与空白值不是同一个概念。

　　6. 不妨加酒精试试。ICP-AES好用。

　　7. 调节蠕动泵。



十六、什么是ICP-MS?

　　1. ICP-MS是电感耦合等离子体-质谱的意思。

　 2. ICP-MS其英文全称是：inductively coupled plasma-mass spectrometry 。



十七、ICP-MS基体问题是怎么一回事呢?

　　1. 基体干扰主要是样品中某些不像测量的元素对测量结果的影响。

　　常见的比如，同样质量数的不同元素对测量结果的影响，测量溶液中的其他集体成分对被检测离子强度的抑制。

　　2. 大白话：基体就是分析铝中杂质，此时铝就是基体。



十八、内标的作用?

　　六十一、ICP-MS测杂质元素K、Na如何，是否一定要去除基体?
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1.钾、钠在自然界中存在较多。所以测量的时候必须足够的稀释。本底要干净，由于两种元素的灵敏度都十分高，所以需要用冷焰。

2.只要溶液瓶、所用试剂、所用水能够保证高纯，就能做出来，曲线还不错，就是标准溶液大概要一周重新配一次。

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六十二、冷却水流速太低?什么原因?是不是循环水装置，那个过滤网太脏了，我们的过滤网外塑料壳拆不下来，好像粘上了一样，每次换水，只能超声一下，是不是这个原因造成水流速过低?　
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1.可能是其他地方也有类似的情况。再检查一下现在的水压是不是比原来低了。调高看看。

2.压力不足吧。

3.建议彻底清洁一下，然后调整水的更换周期，可能含有微生物污染物较高，同时如果条件具备的话，请提高原水质量!

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六十三、一般文献中提到的是方法检出限还是仪器的检出限，应该是用样品空白测的吧。如果是仪器检出限用2%的硝酸??还有就是检出限是用空白的浓度求出，还是先用其CPS值求出CPS的偏差呢?
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1.检出限表示分析方法、分析体系检测功能优劣的一个重要指标。它的含义是：在确定的分析体系中可以检测的元素最低浓度或含量。它属于定性范畴。若被测元素在分析试样中的含量高于检出限，则它可以被检出；反之，则不能检出。检出限受空白值大小及标准偏差的影响。IUPAC于1975年推荐检出限的定义：“检出限以浓度(或质量)表示，指由特定的分析方法能够合理地检测出的最小分析信号xL求得的最低浓度cL(或质量qL)”，表达式为：cL(或qL)=(xL-b)/m=KSb/m ，式中m为分析校准曲线在低浓度范围内的斜率;b为空白平均值;Sb为空白标准偏差。测定次数为20次，IUPAC建议K=3作为检出限计算标准。AMC(分析方法委员会)推荐真实空白,但在实际分析中，它有时很难得到。许多分析工作者使用试剂空白或接近空白。不同学者对接近空白有不同的定义，分析元素的含量为检出限的2-5倍。

2.K=3也是有根据的，其实真正的检测限计算公式还考虑到了测定结果的置信度：LOD = 2 squ(2)*t*SD，其中squ(2)即根号2，t为特定置信度下的单边值，如果测定次数为11次，t=2.2，这样计算出来SD前面的系数就是3.3左右，如果为20次平行测定，系数则为3。


六十四、ICP-MS测Os，基本上是关于前处理的，由于Os的挥发性在处理过程中很容易损失，看文献上用同位素稀释法做的比较多，还有其他方法吗?谁有这方面的经验介绍一下，直接测量的话是不是很不准啊。

1.要准确测定Os，必需要用同位素稀释法，因为Os具有挥发性，并且不同价态其灵敏度不一样，八价Os 具有最高灵敏度，是其他价态的20-30倍，普通方法很难准确测定。样品溶解方法有Na2O2熔融法，Carius tube 法。样品溶解后，蒸馏分离，用H2O，HCl或HBr吸收。

2.一般不用HBr吸收，会把Os还原为低价的，用HCl吸收，效果比较好。也有人用Br2萃取Os，然后用Cr2O3氧化Os，再进行微蒸馏。不过这样做的回收率比较低。


六十五、我单位在测定海水样品,不知能否直接进样.氯离子是否有影响,如果有影响,怎样去除干扰?

1.可以直接进样的。aglient仪器好像可以不稀释就能测。我一般是稀释15倍测试。

2.如果不稀释，基体效应会很大，稀释后某些元素含量低，可能也不能测定，必需要富集。能直接测定的元素非常少。

3.一般用共沉淀比较简单。


六十六、为什么不用做标准曲线就可以给出一大概的浓度呢?误差一般大多少呢?　

1.其实是做了工作曲线的。空白一点，一个标准溶液作为另一点，两点定标，所以只能是半定量。

2.就是通过一个空白一个标准来定量的，至于误差么，要看做什么，用什么仪器做的了，不过总之，误差是比较大的。

3.半定量模式应用的是各元素灵敏度间的关系，对于一台仪器尔言，这个关系应该是固定的。用定量元素绘制半定量曲线，各元素的灵敏度关系就都出来了。半定量曲线使用二次回归方程。有些元素理论灵敏度与实际灵敏度不一定相符，这是半定量结果不准确的原因之一，需要经验校正。绘制半定量曲线，选择定量元素很重要。

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六十七、请问磺基水杨酸水溶液是用来络合Fe吗?测定下线有点高，达到1ng/g，现在对低含量地质样品要求测定限到0.01以下(已有文献报道)，例如玄武岩，辉长岩等(主要IPGE低，有时<0.1ng/g),超基性岩IPGE(Os,Ir,Ru)高，比较好作一些。依照本人经验，用Te共沉淀时最后溶液中Cu，Ni，Zr 浓度较高，严重干扰低含量样品中Rh(ArCu)和105Pd，及106Pd (ZrO)测定。不知用Mn共沉淀时有无此现象。
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Cu,Ni,Zr高可以用p507树脂除去。不影响测试。用阳离子树脂+P507树脂联合。
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六十八、使用的SPEX的CLMS-4标准，它标注的介质是H2O/Tr.HF，表示多少浓度的HF酸呢?
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Tr HF 应该是 trace HF， 因为这个标准里面有Nb,Ta,Zr,Hf, 需要微量HF来稳定Nb,Ta,Zr,Hf。
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六十九、仪器ICP-MS原料：食品，土壤。请问：一般的消化时应该注意什么?
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1.建议先高温下(500度以上)烘2小时,再用微波消解。我作过奶粉中的微量元素，直接消解问题多多，特别是蛋白质多的样品。

2.先高温下(500度以上)烘2小时，会有一些低温元素损失。建议直接用高压微波消解，注意中低压的微波消解不行。我曾经使用过Milestone的高压微波消解，效果不错。

3.电热板：食品用硝酸-高氯酸或硝酸-双氧水消解，土壤用王水-HF消解。微波：食品用硝酸或硝酸-双氧水消解，土壤用逆王水或逆王水-HF消解。压力溶弹：试剂与微波法相同，控温烘箱100度1小时，185度4小时。如果要测Hg，我用过CEM的高压罐和压力溶弹，Hg回收率是有保证的。


七十、想用ICP-MS测橡胶、尼龙中的金属元素(Pb、Cd、六价铬)，该如何做前处理啊?

请参考以下标准：EPA 3052, EN 1122可以测Pb、Cd；EPA 3060A可以测Cr(VI)

七十一、ICP-MA应用手册中讲，在测Pb时计算Pb含量要用Pb的三个同位素的含量相加。但在计算其他元素的含量时有时用丰度最大的同位素，有时却时用两个同位素的平均值，请问这是为什么?

因为Pb204是放射性元素，所以各地的铅的组成是不同的。但206、207、208是稳定的，他们的总量是一定的。所以一般用他们之和。

七十二、请问金属镀锌件表面的六价铬的含量测定如何前处理?怎么把表面镀层溶解下来，又要保持铬是六价?

EPA 3060A(碱性溶液消解)或者IEC草案都有详细的介绍，EPA 3060A应该可以从EPA的网站上下载。


七十三、Si能用酸溶吗?我买的Si标液介质是Na2CO3，我用的是ICP-MS，怕Na污染，想用硝酸溶解稀释，不知可不可以?

1.不行，酸溶不了的，只能用氢氧化钠或碳酸钠。

2.想用酸溶的话，用HF酸。

3.用硝酸+氢氟酸试试吧~~~~不过一般标配的雾化器和雾化室应该是不耐HF腐蚀的,要另配。


七十四、icp-ms仪器的检出限是空白下信号方差的3倍，书上说一般定量检测限在10倍检出限以上。那么对固定方法，mdl是工程空白溶液或者是空白溶剂的方差的3倍，方法定量检测限也是10倍方法检出限吗?如果这样，如果过程空白中，某些元素含量较高，导致方差较大，测量结果就没什么意义了，我最近作的几次试验，发现很多元素只可以检出，无法定量，大家是这样的吗？

对于具体的实验方法的检出限，当然是用过程空白。用空白溶剂只能说明仪器的能力，也就是说理想状况可以达到的检出限。
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七十五、我所用的PQ EXCELL型号的质谱冷却气的质子流量计坏了,自己换了一个新的,我想知道如果在软件上调整冷却气流量大小的话,压力变化在何处显示,变化大概有多少？
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1.没有显示压力的部分，热电工程师在我们这里调试时，是接上三通，调节流量时观察塑料管插入水中产生气泡数量判断是否正常。

2. 压力的变化不会很大，主要是流量的变化，可以接三通来监测。

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七十六、反射功率是什么意思?它逐渐增大是什么原因造成的?
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高频电能通过耦合线圈产生高频电磁场，从而输送稳定的高频电能给plasma，但是耦合线圈并不能完全吸收所有的功率，就会有部分功率被反射回功率放大器，这就是反射功率。反射功率增大的主要原因是由于plasma不稳定造成的，具体因素可能是炬管粘污，锥脏了，高频屏蔽不好，功率放大器工作不稳定，耦合电容不稳定等等。
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七十七、有一个高纯铝块样，欲测其中Fe、Cu、Si、Zn、Mg、Pb等杂质的含量，请教如何前处理样品?选择什么模式测定?(热焰?冷焰?CCT?Xi?)

1.样品用5%的氢氧化钠溶液溶液解后，酸化就可以。

2.王水90度水浴溶解即可。铁用CCT测试。


七十八、分子泵在未点火的情况下自己停了,再抽真空时分子泵的转速到600左右时就再也上不去了,什么原因?

1.是不是有漏?或者分子泵轴承有问题了?

2.最大的可能是哪里漏气了,如果不行,赶紧联系厂家吧,否则分子泵坏了可麻烦了。


七十九、请教一下，在我做实验过程中，为什么Ag, Au,Pd的标准曲线总是不太好，标准系列是：blank,0.2ppb,1ppb,3ppb,10ppb,30ppb,第一、二个点总是有点偏高，而后面几个点也不好，线性只有99.8%的样子，请问是什么原因?另外我用的是混标，混标中的其他元素的曲线都非常好，能达到4个9以上。
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1.标准配制时注意不要引入氯离子，避免形成沉淀。Pd 不要用塑料瓶装。低含量标准不能放置时间过长。

2.发现你配制标准溶液还挺有意思，一般浓度都成比例，你却列外，我经常做银标准曲线，浓度为0.0、0.2、0.4、0.6、0.8、1.0，效果非常好。

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八十、怎么洗锥?
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1.我的方法是先用5%硝酸泡一会，然后用800-1200目的氧化铝粉擦洗。

2.我用的是Ni cone 就用2%的硝酸把孔那个位置泡一下，然后用镜头纸檫。

3.我这有GC-MS清洗离子源用的砂布，我加上氧化铝调成糊状来擦，基本上可以洗干净的。

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八十一、IPC-MS的分辨率是和什么有关系啊?　
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高分辨的仪器里面和进出磁场的狭缝宽度有关，低分辨可能和四极杆加载频率有关。
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八十二、请教用标准加入法检测的利弊?
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最大的好处：可以降低基体的影响，提高测试精度。

最大的缺点：麻烦。

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八十三、现在测定的Cd的同位素比值，刚开机的时候测定的和真实值差别极大，但是随着时间进行，测定值慢慢越来越接近真实值，这是怎么回事？原来没有这样的问题啊，只是自己用autotune调谐过一次仪器，哪位知道是什么原因吗?
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感觉是进样系统的问题，检查下雾化器。
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八十四、我用的为热电的PQ EXCELL型的质谱,最近发现一个问题,点火是不太容易点着,且用大约3个小时后,114.9的信号有时会从4万下降到3万。
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我的经验是,关于点火,要注意检查炬管的位置,同时注意与雾室接头处的连接不能漏气,再就是氩气的纯度,信号的衰减是正常的。
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八十五、我用热电的(PQ EXCELL)型号的ICP-MS做痕量元素的分析,使用大约2个小时以后,反测前面的标准曲线的点,轻元素的信号下降的特别厉害,如Al等元素,前期测计数大约为4万左右,在2个小时以后变为25000左右,重金属元素信号下降也大约在10%-20%左右,我个人觉得信号的下降太大了,但不知是何原因造成的(房间恒温恒湿)。
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1.平时真空泵没关吧?建议点火后稳定半个小时后再作标准曲线。

2.可能和基体有关系，比较高的基体时，会在锥上面很快沉积导致锥孔变小，使得灵敏度下降。

3.在作标准曲线前,一定要使仪器预热一定时间,待仪器运行状态稳定后,再作标准曲线。

4.个人简要补充几点:　　

a.雾化器效率；　　

b.离子由离子源经质量分析器传输至检测器的离子传输效率；

c.Sampling cones & Skimmer cones部分被堵；　

d.检测器处于疲劳状态需进行活化处理。对于ICP-AES目前最要的一个改进方向便是改善进样系统,对于ICP/MS不仅需改善进样系统,而且更为重要的是如何提高离子传输效率,即如何减少离子由离子源经质量分析器到达检测过程中离子的损失这,都是进一步降低检出限与提高灵敏度的有效途径。

5.要注意是否是锥老化了,观察锥孔的形状,如果不圆了可能就该换了,另外您可以先测一下调试溶液,看是否稳定,如果调试液很稳定,那说明仪器本身没有问题,可能是样品的影响。

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八十六、我用的ICP-MS在CCT条件下测铁时加标只有40%-50%，另外用冷焰做钠是非常不稳定，不知为何?
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1.测铁的话Ar和C会对它有干扰，不容易做，而且要看你加标的量是否和样品成比例。

2.因为有ArCL的干扰,不好做,要去除干扰。还有污染太大。

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八十七、我们有一个样品，是一个镀镍的铝片，上面有一个很小的微点，现在怀疑是Cr和Fe，这样的样品前处理该怎么做呢? 有没有什么更好的分析方法?
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如果微点够大的话,可以尝试用SEM+EDS，基本不用前处理。
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八十八、有谁使用过膜去溶装置,我想了解一下它的主要功能和用途以及原理,和ICP-MS如何联用?
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1.膜去溶主要可以降低干扰，提高灵敏度。原理就是采用气体吹扫去掉溶剂。仅让溶质进入ICP。

2.主要的功能就是能够降低基体的影响，其方式就是通过高温(160℃)去除溶剂水，然后用比较高流量的栽气将溶质以气溶胶的方式进入仪器。这样，由于基体的氧化物和氢化物的干扰造成的影响就很低了。同时，样品的传输效率和利用率都提高了，所以灵敏度也会有很大的提高。

3.膜去溶和仪器的连接也是很方便的，只要把雾化器和炬管的接口换成是膜去溶的接口就可以了。

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八十九、炬管口有很小的一个破损的缺口，仪器分析有影响吗?
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1.是线圈那头还是进口，进口应该没有影响。线圈那头会不会对气流有干扰?造成信号不稳定?

2.观察一下火焰的情况,没什么异常的话应该不会有什么影响.不放心的话做个标样看看.要看缺口大到什么程度,很小的话不会影响火焰的稳定吧。

3.应该是外管顶端边缘吧，从电感耦合等离子体的工作原理上考虑，只要对外气流没有什么影响，就想不出有什么太大的影响。但是否有影响我认为首先要观察一下炬焰，看其两侧是否有异常，如两边有红火焰出现就是烧炬管了，应立即更换炬管，再有就是看分析结果的好坏和仪器性能的稳定性，如果分析结果及仪器性能没有什么变化，就应该没有太大的问题。

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九十、有谁修过EDWARDS的分子泵吗?我这里有一个不转了，好像后面的弹子不动了，但是不知道怎么拆?
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分子泵很好开，如没有专门的工具，可以在泵后面的两个小孔上插上两个小钢棒(比如小内六角扳手)，然后用一起子横在中间就可以转开了。另外，注意油锥是反口螺丝。更换轴承要有专门的工具或相当的经验才行，否则马上就坏掉。


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