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    <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。 - 光刻技术及化学品</title>
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    <description>Latest 20 threads of 光刻技术及化学品</description>
    <copyright>Copyright(C) 环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</copyright>
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    <lastBuildDate>Fri, 07 Aug 2026 21:45:40 +0000</lastBuildDate>
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      <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</title>
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      <title>光刻胶</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=3002</link>
      <description><![CDATA[2021-08-04   环球过滤分离技术网  nanopuretech8

光刻胶是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X 射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要应用领域包括：半导体领域的集成电路和分立器件、平板显示、LED、以及倒扣封装、磁头及精 ...]]></description>
      <category>光刻技术及化学品</category>
      <author>nanopuretech8</author>
      <pubDate>Tue, 03 Aug 2021 23:57:23 +0000</pubDate>
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      <title>集成电路光刻胶产业和技术发展现状</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=3001</link>
      <description><![CDATA[2021-08-04   环球过滤分离技术网   nanopuretech8

光刻胶又名“光致抗蚀剂”，是一种在紫外光等光照或辐射下，其溶解度会发生变化的薄膜材料。光刻胶的配方较为复杂，通常由增感剂、溶剂、感光树脂以及多种添加剂成分构成，是集成电路制造的关键基础材料之一，是 ...]]></description>
      <category>光刻技术及化学品</category>
      <author>nanopuretech8</author>
      <pubDate>Tue, 03 Aug 2021 23:47:07 +0000</pubDate>
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