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    <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。 - 半导体工艺系统</title>
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    <description>Latest 20 threads of 半导体工艺系统</description>
    <copyright>Copyright(C) 环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</copyright>
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      <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</title>
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      <title>集成电路工艺化学品标准体系探讨</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=4976</link>
      <description><![CDATA[2025-12-09          环球过滤分离技术网           guolvfenlitech6








集成电路工艺化学品标准体系探讨





























来源于：网络，侵权告删，网站发布研究文章仅用于知识传播和交流以及非经济目的使用，严禁商用；如有其他应用，请 ...]]></description>
      <category>半导体工艺系统</category>
      <author>guolvfenlitech6</author>
      <pubDate>Mon, 08 Dec 2025 23:03:33 +0000</pubDate>
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      <title>关于解决晶背污染的方法研究</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=3842</link>
      <description><![CDATA[2023-05-10           环球过滤分离技术网          guolvfenlitech6
















来源于：网络，侵权告删           www.guolvfenlitech.com]]></description>
      <category>半导体工艺系统</category>
      <author>guolvfenlitech6</author>
      <pubDate>Wed, 10 May 2023 13:54:45 +0000</pubDate>
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      <title>用于器件工艺中的电子级纯气体 和易挥发试剂的化学分析</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=3816</link>
      <description><![CDATA[2023-04-28        环球过滤分离技术网        guolvfenlitech3





用于器件工艺中的电子级纯气体和易挥发试剂的化学分析































来源于：网络，侵权告删          www.guolvfenlitech.com









 ...]]></description>
      <category>半导体工艺系统</category>
      <author>guolvfenlitech3</author>
      <pubDate>Thu, 27 Apr 2023 22:52:09 +0000</pubDate>
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      <title>10 nm制程用电子级氢氟酸中痕量阴离子分析方法</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=3795</link>
      <description><![CDATA[2023-04-23         环球过滤分离技术网        guolvfenlitech8



10 nm制程用电子级氢氟酸中痕量阴离子分析方法















来源于：网络，侵权告删       www.guolvfenlitech.com





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      <category>半导体工艺系统</category>
      <author>guolvfenlitech8</author>
      <pubDate>Sat, 22 Apr 2023 23:16:32 +0000</pubDate>
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      <title>超大规模集成电路的重要支撑材料 ——超净高纯试剂</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=3792</link>
      <description><![CDATA[2023-04-22       环球过滤分离技术网        guolvfenlitech8





超大规模集成电路的重要支撑材料——超净高纯试剂
















来源于：网络，侵权告删         www.guolvfenlite



 ...]]></description>
      <category>半导体工艺系统</category>
      <author>guolvfenlitech8</author>
      <pubDate>Fri, 21 Apr 2023 22:52:39 +0000</pubDate>
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      <title>气体与金属化学兼容性表</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=2961</link>
      <description><![CDATA[2021-07-22  环球过滤分离技术网   guolvfenlitech6

气体与金属化学兼容性表

选择一个Mott高纯度气体过滤器：
选择最好的金属过滤器并不总是一件简单的事，因为除了容易确定的变量（例如，气体，压力和流量），也有主观的因素。有些气体与多种金属材料兼容，你可以 ...]]></description>
      <category>半导体工艺系统</category>
      <author>guolvfenlitech6</author>
      <pubDate>Wed, 21 Jul 2021 23:32:44 +0000</pubDate>
    </item>
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