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    <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。 - 半导体滤芯清洗工艺与技术</title>
    <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=forumdisplay&amp;fid=1382</link>
    <description>Latest 20 threads of 半导体滤芯清洗工艺与技术</description>
    <copyright>Copyright(C) 环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</copyright>
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    <lastBuildDate>Tue, 10 Nov 2026 11:17:42 +0000</lastBuildDate>
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      <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</title>
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      <title>半导体---清洗工艺</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=5214</link>
      <description><![CDATA[2026-09-24              环球过滤分离技术网                guolvfenlitech6






清洗作业是目前去除污染唯一有效方式，因此从半导体芯片制造、封装，到后面的PCAB封装环节，几乎每完成一道加工工序，都紧接着会有一道清洗作业。
[hr]
清洗贯穿整个半导 ...]]></description>
      <category>半导体滤芯清洗工艺与技术</category>
      <author>guolvfenlitech6</author>
      <pubDate>Tue, 22 Sep 2026 22:40:13 +0000</pubDate>
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      <title>化学液精准加热---怎样影响颗粒与良率</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=5213</link>
      <description><![CDATA[2026-09-23              环球过滤分离技术网              guolvfenlitech6






      晶圆制造的线宽越来越小、结构越来越复杂，清洗却始终贯穿前道工艺。氧化、沉积、光刻、刻蚀或离子注入之后，晶圆表面都可能残留颗粒、有机物、金属离子或自然氧化层 ...]]></description>
      <category>半导体滤芯清洗工艺与技术</category>
      <author>guolvfenlitech6</author>
      <pubDate>Tue, 22 Sep 2026 22:28:42 +0000</pubDate>
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