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    <title>环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。 - 光刻胶过滤.净化</title>
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    <description>Latest 20 threads of 光刻胶过滤.净化</description>
    <copyright>Copyright(C) 环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。</copyright>
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      <title>光刻胶g线、i线、KrF、ArF、EUV简介</title>
      <link>http://www.guolvfenlitech.com/forum.php?mod=viewthread&amp;tid=5132</link>
      <description><![CDATA[2026-07-08          环球过滤分离技术网              guolvfenlitech6










01半导体光刻胶分类
半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是紫外全谱(300～450nm)、G 线(436nm)、 I 线(365nm）、深紫外(DUV，包括248nm和193nm)和极紫外(EUV)， ...]]></description>
      <category>光刻胶过滤.净化</category>
      <author>guolvfenlitech6</author>
      <pubDate>Tue, 07 Jul 2026 22:02:07 +0000</pubDate>
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