PALL赋能中国半导体行业的过滤产品 - 环球过滤分离技术网（http://guolvfenlitech.com）是中国过滤.分离.净化.纯化、超洁净技术行业领先的前沿科技、产品和技术信息供求，技术解决方案，技术交流分享以及过滤、分离、纯化、超洁净产品和技术供需服务平台。

集成电路 (IC) 技术的功能范围的缩小以及其他新的发展成果，对半导体行业产生了巨大的影响。这些发展使得对消费性电子产品产生了前所未有的需求。

先进的半导体制造商选择过滤及纯化产品的主要依据就是这些产品的工艺使能特征及其质量、低成本和高生产力。

颇尔公司提供质量极高的化学过滤器，功能出色且具有价格优势。我们在产品研发领域的投资，不断开发出新的过滤器材料以及纯化技术，进而使半导体行业制造商受益。

PALL颇尔集团2015年成为丹纳赫的一员。丹纳赫在科技领域的引领地位使颇尔集团的解决方案处于行业前沿，并惠及更多人群。与丹纳赫在生物技术、医学诊断和生命科学领域的其他业务团队一起，释放前沿科学和技术的变革潜力，每天改善数十亿人生活。

PALL全球员工团结致力于解决客户在过滤、分离和纯化方面的挑战，并促进健康、安全与环保科技的进步。PALL丰富的技术和解决方案，用于保障健康、保护关键运营资产、提高产品质量以及减少排放和浪费。PALL团队专精于服务工业行业的众多客户，包括燃油石化、化工、汽车、电力、微电子、食品饮料和航空航天等。

化学过滤器的基本功能就是去除随机缺陷产生的颗粒。而这一功能，在使用这些过滤器的一些恶劣且经常具有侵蚀性的液体环境中，可能是难以实现的。化学过滤器必须无故障地实现可靠、精确、准确的性能。

颇尔过滤介质必须满足有助于去除颗粒以及提高预期应用截留率的各种性能的严苛要求。为了确定我们化学过滤器的真实性能，我们通常在实验室设置环境中，在真实的工艺化学应用条件下，对这些过滤器进行测试评级。这就可对过滤器厂内性能进行更准确的预测。

化学过滤器的渗透性，通过化学流体流经过滤器的容易度来确定。批次应用和一些化学品输送系统中浴槽流通率仍在增加。

为了提高其褶皱式过滤器的流速，颇尔研发了一种独特的技术 - Ultipleat® 过滤器设计。这一专利的褶上铺设计，增加了有效的过滤器表面积，提供有支撑层，增强了过滤器的流体动力学。这一设计的另一个优势就是，它在过滤器遭受脉动条件影响时，对褶皱加以保护。

我们还利用我们专有的高度不对称形态技术，增加我们化学过滤器的流速，并提高颗粒截留能力。该技术使得一台过滤器同时具有高渗透性以及更细颗粒截留能力，无需依靠应用相关的亲和电荷。

在化学应用中，过滤器材料和工艺流体都涉及到纯度问题。与工艺化学品接触的所有组件，包括泵、阀门、管道和过滤器，都是污染源。颇尔已研发了一种专有的过滤器后清洗方法，称为 Me-KleenSM 工艺，该工艺可以有效地将金属析出物降低到可能的最低水平。除了为降低 TOC 水平提供清洗选项之外，我们仍在继续改进这一工艺。

更多的化学应用依靠净化器，来进一步减少工艺流体中的离子污染。颇尔拥有各种过滤和高性能去除关键工艺化学品中离子污染的专有技术。其中，颇尔独特的 IonKleen™ 净化器膜表面改性技术具有较高的离子去除性能。

颇尔在材料科学发展领域中拥有技术领先地位，已生产出各种过滤介质，其中包括采用PTFE、聚芳砜、尼龙、PVDF、聚乙烯和聚砜构成的介质，可分别针对各种应用选择最佳介质。颇尔的新型高度不对称聚芳砜膜，证明了如何在典型的HF过滤应用中，使用工程聚合物介质，提高过滤性能，同时降低操作成本。

颇尔电子级(E-Grade)高纯度化学过滤器是在受控环境下进行生产和组装的。所有采用的材料都必须满足严格的质量控制要求。每台E-Grade过滤器都在多个生产阶段进行检查，并进行100%最终完整性测试，从而确保产品的一致性以及各个生产批次之间的再现性。